Производственная система PlasmaPro 100 PECVD

Система PlasmaPro 100 PECVD специально разработана для получения высококачественных пленок с превосходной однородностью и контролем свойств пленки, таких как коэффициент преломления, напряжение, электрические характеристики и скорость мокрого химического травления. Наша передовая система Plasma Enhanced CVD подходит для пассивации диэлектрических пленок (например, SiO2, SixNy), карбида кремния, аморфного кремния, осаждения жестких масок и нанесения антибликовых покрытий. Высококачественные пленки, высокая производительность, отличная однородность Плазменное осаждение высокой плотности и осаждение под низким давлением Отличный контроль показателя преломления и напряжения Совместимость с пластинами размером до 200 мм Быстрая смена размеров пластин Низкая стоимость владения и простота обслуживания Электроды с резистивным нагревом с возможностью нагрева от 400°C до 1200°C Очистка камеры на месте и конечная точка Обзор PlasmaPro 100 PECVD обеспечивает превосходное конформное осаждение и низкое образование частиц благодаря однородности температуры электрода и конструкции душевой головки в электроде, позволяющей радиочастотной энергии производить плазму. Высокоэнергетические реактивные виды плазмы обеспечивают высокую скорость осаждения для достижения желаемой толщины подложки при сохранении низкого давления. Двойная частота 13,56 МГц и 100 КГц, подаваемая на верхний электрод, позволяет контролировать напряжение и уплотнять пленку. Характеристики Подача реактивных веществ на подложку, равномерный высокопроводящий путь через камеру позволяет использовать высокий поток газа при сохранении низкого давления Душевая головка с радиочастотным питанием и оптимизированной подачей газа обеспечивает равномерную плазменную обработку, а переключение НЧ/РЧ позволяет точно контролировать напряжение пленки Высокая производительность насоса обеспечивает широкое окно давления процесса