Производственная система PlasmaPro 100 Nano CVD

Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) и PECVD для роста 1D/2D наноматериалов и гетероструктур. PlasmaPro 100 Nano (ранее Nanofab) обеспечивает высокопроизводительный рост наноматериалов с активацией катализатора на месте и строгим контролем процесса при гибких температурах до 1 200°C. Превосходная однородность при гибких температурах до 1200°C Возможность выбора стола с температурой 700°C, 800°C или 1200°C Размеры образцов до 200 мм Фиксатор вакуумной нагрузки - Быстрая замена образцов Холодная конструкция стенки с душевой лейкой для равномерной подачи прекурсоров Дополнительная система подачи жидких/твердых прекурсоров для выращивания MoS2, MoSe2 и других ТМДК Превосходная однородность при гибких температурах до 1200°C Возможность установки стола с температурой 700°C, 800°C или 1200°C Размеры образцов до 200 мм Фиксатор вакуумной нагрузки - Быстрая замена образцов Холодная конструкция стенки с душевой лейкой для равномерной подачи прекурсоров Дополнительная система подачи жидких/твердых прекурсоров для выращивания MoS2, MoSe2 и других ТМДК Глобальная поддержка клиентов Компания Oxford Instruments стремится обеспечить всестороннюю, гибкую и надежную глобальную поддержку клиентов. Мы предлагаем отличное качество обслуживания на протяжении всего срока службы вашей системы. Программное обеспечение для удаленной диагностики обеспечивает быструю и простую диагностику и устранение неисправностей. Доступны контракты на поддержку, соответствующие бюджету и ситуации. Глобальные запасные части в стратегических местах для быстрого реагирования.