Производственная система PlasmaPro 80 ICP RIE

PlasmaPro 80 ICP - это компактная, занимающая небольшую площадь система, предлагающая универсальные решения для ICP-травления с удобной открытой загрузкой. Она проста в размещении и использовании без ущерба для качества процесса. Конструкция с открытой загрузкой обеспечивает быструю загрузку и выгрузку пластин, что идеально подходит для исследований, создания прототипов и малосерийного производства. Она обеспечивает высокопроизводительные процессы благодаря оптимизированному охлаждению электродов и превосходному контролю температуры подложки. Открытая конструкция загрузки обеспечивает быструю загрузку и выгрузку пластин Отличный контроль травления и определение скорости Отличная равномерность температуры пластин Подложки толщиной до 200 мм Низкая стоимость владения Изготовлен по стандартам Semi S2/S8 Области применения Процессы травления III-V Процессы травления кремния Bosch и крио-травления Травление SiO2 и кварца Анализ отказов при сухой обработке травлением, начиная от травления упакованных микросхем и матриц и заканчивая полным травлением 200-миллиметровых пластин Осаждение и травление жестких масок для производства светодиодов высокой яркости Характеристики Небольшая площадь - легко размещается Оптимизированное охлаждение электродов - Контроль температуры подложки Высокопроводящая радиальная (осесимметричная) конфигурация насоса - Гарантированная повышенная равномерность процесса и скорости Добавление регистрации данных с периодом < 500 мс - Прослеживаемость и история условий камеры и процесса Турбонасос с тесной связью - Высокая скорость откачки и отличное базовое давление Удобный доступ к ключевым компонентам - Улучшенная ремонтопригодность и техническое обслуживание Система управления X20 - Значительно повышает скорость поиска данных и обеспечивает более быстрое и воспроизводимое согласование Диагностика неисправностей и инструмента через программное обеспечение на передней панели - быстрая диагностика неисправностей