Автоматическая система нанесения покрытий EM ACE600

автоматизированнаядля лабораторий

Обзор
Подготовьте тонкие пленки мелкозернистой структуры для электронной микроскопии с помощью sputter‑коутера EM ACE600. Точные автоматизированные процессы карбонового и металлического напыления обеспечивают воспроизводимые результаты и увеличивают пропускную способность образцов. Только для исследовательского использования.

Ключевые возможности

• Высоковакуумный коутер, настраиваемый под несколько источников: sputter, углеродная нить, углеродный стержень и e‑beam.
• Двухисточниковая камера для металлических процессов, позволяющая использовать до двух различных источников в одном цикле без разрыва вакуума.
• Автоматизированные рецептурные процессы напыления и фронтальная загрузка для безопасной и удобной работы.
• Поддержка крио‑рабочих процессов: интерфейс крио‑переноса, крио‑стейдж и базовое устройство для фрагментации для напыления при криогенных условиях и крио‑переноса в SEM.
• Опция ротационного затенения (LARS) с e‑beam источником и моторизованной LARS‑стейдж для низкоуглового затеняющего напыления наномасштабных структур.
• Пользовательский интерфейс с сенсорным экраном, ориентированный на рабочие процессы, для простого однокнопочного запуска рутинных операций.

Sputter‑напыление
Получайте воспроизводимые мелкозернистыe sputter‑покрытия. Система обеспечивает отличное базовое давление (< 2 x 10-6 mbar стандартно) с опциональным Meissner‑ловушкой для достижения диапазона 10-7 mbar. Регулируемое расстояние до образца и угол напыления, а также вращающаяся стейдж позволяют добиться равномерных покрытий и оптимизировать процесс для разных морфологий и целей. Разработано для SEM‑анализа при высоком увеличении (до ~200kX и выше).

Углеродное напыление
Наносите ультратонкие однородные углеродные пленки методом испарения углеродной нити, испарения углеродного стержня или электроннолучевого (e‑beam) испарения. Leica adaptive pulsing для углеродной нити обеспечивает точные аморфные пленки с субнанометровым контролем при минимальном тепловом воздействии. Подходит для опорных пленок TEM, защитных рассеянных покрытий и больших однородных углеродных слоев. E‑beam испарение доступно для задач, требующих малой дивергенции пучка, например ротационного затенения.

Адаптивность и конфигурация

• Оптимизированная концепция с двумя источниками, с наклонными портами и вращающейся стейдж для равномерного распределения тонкой пленки по всей 100 мм площадке.
• Выбор источников: углеродная нить, углеродный стержень, e‑beam и sputter; возможна комплектация glow discharge.
• Может быть модернизирован на месте; широкий выбор держателей образцов и стейджей (моторизованная 3‑осевая стейдж, ротационные/ручные стейджи, выделенная охлаждающая стейдж).
• Быстросменные поддоны стейджа для многоцелевых лабораторных рабочих процессов.

Эксплуатационные преимущества

• Фронтальная загрузка для безопасной обработки чувствительных образцов.
• Легкие удобные в обращении источники для повседневной работы.
• Автоматизированные рецепты и рецепт‑ориентированная обработка для воспроизводимости и повышения пропускной способности.

Применения

• Высокого разрешения SEM‑изображения плоских или структурированных непроводящих образцов.
• Повышение контраста наномасштабных структур (белки, ДНК) с помощью ротационного затенения и металлического напыления.
• Производство опорных пленок для TEM (ультратонкие углеродные слои 1–5 nm, отжиг для снижения загрязнения).
• Подготовка образцов cryo‑SEM и рабочие процессы крио‑переноса.

Технические характеристики

• Модель: EM ACE600
• Тип: высоковакуумный коутер для углерода, e‑beam и sputter
• Базовое давление: < 2 x 10-6 mbar (стандарт)
• Опциональное улучшение вакуума: Meissner‑ловушка до диапазона 10-7 mbar
• Поддерживаемые источники: sputter, испарение углеродной нити, испарение углеродного стержня, e‑beam испарение
• Конфигурируемая металлическая камера с двумя источниками (до двух разных источников в одном процессе)
• Диаметр/покрытие стейджа: оптимизировано для полной 100 мм однородности
• Регулируемое расстояние до образца и угол напыления; вращающаяся стейдж для однородного осаждения
• Контроль толщины углеродной пленки: точное осаждение (типичные ультратонкие пленки 1–5 nm)
• Возможность ротационного затенения (LARS) для низкоуглового металлического напыления
• Cryo‑совместимость: интерфейс крио‑переноса, крио‑стейдж, базовое устройство для фрагментации
• Загрузка: фронтальная загрузка для безопасной работы с образцами
• Пользовательский интерфейс: workflow‑ориентированный сенсорный экран, автоматизированная обработка рецептов
• Модернизируемость: варианты модернизации на месте (источники, стейджи, glow discharge)
• Предназначение: Только для исследовательского использования