Устройство подготовки проб для электронной микроскопии ZONESEMII
автоматическоедля лабораторийдля поверхности

Устройство подготовки проб для электронной микроскопии - ZONESEMII  - Hitachi High-Technologies - автоматическое / для лабораторий / для поверхности
Устройство подготовки проб для электронной микроскопии - ZONESEMII  - Hitachi High-Technologies - автоматическое / для лабораторий / для поверхности
Добавить в папку «Избранное»
Добавить к сравнению
 

Характеристики

Режим использования
автоматическое
Применение
для лабораторий, для электронной микроскопии
Тип образцов
для поверхности
Конфигурация
настольное, настольное

Описание

Настольный очиститель образцов ZONESEMII использует технологию очистки на основе ультрафиолетового излучения для минимизации или устранения углеводородного загрязнения при получении изображений с помощью электронной микроскопии. Обзор Подготовка, обработка или хранение образцов в атмосферных условиях может привести к накоплению углеводородов на образце, а под воздействием электронного пучка эти углеводороды могут образовать толстый слой на поверхности. Очистка поверхности образца с помощью ZONESEMII удаляет углеводороды и уменьшает доступные молекулы для загрязнения, вызванного пучком. Предотвращение загрязнения поверхности образцов необходимо для достоверного наблюдения в электронной микроскопии. ZONESEMII использует контролируемое вакуумом УФ-облучение и активированный кислород для мягкого удаления углеводородов с поверхности образца до получения изображения и без использования каких-либо химикатов или реагентов. Благодаря удобной для лаборатории площади и интуитивно понятному сенсорному экрану ZONESEMII второго поколения станет безопасным и простым в использовании дополнением к любой лаборатории. Характеристики Разработанный специально для держателей образцов Hitachi, ZONESEMII обеспечивает оптимизированные режимы очистки и хранения образцов. ZONESEMII служит отличным осушителем для предотвращения выделения газов из держателей. Простая в использовании сенсорная панель Программируется до 24 часов Переменный контроль давления Причина загрязнения Взаимодействие между углеводородами на поверхности образца и облученным электронным пучком приводит к загрязнению образца. Углеводороды обычно нековалентно прикрепляются к поверхности образца во время обработки, подготовки и хранения образца. Процесс очистки Для эффективного удаления углеводородов в ZONESEMII используется УФ-лампа с длинами волн 185 нм и 254 нм.

---

Каталоги

Для этого товара не доступен ни один каталог.

Посмотреть все каталоги Hitachi High-Technologies
* Цены указаны без учета налогов, без стоимости доставки, без учета таможенных пошлин и не включают в себя дополнительные расходы, связанные с установкой или вводом в эксплуатацию. Цены являются ориентировочными и могут меняться в зависимости от страны, цен на сырьевые товары и валютных курсов.