FIB-SEM Hitachi Ethos - это FE-SEM последнего поколения с превосходной яркостью и стабильностью луча. Ethos обеспечивает получение изображений высокого разрешения при низких напряжениях в сочетании с ионной оптикой для прецизионной обработки наноразмеров.
Основные характеристики
1. Высокопроизводительная колонка FE-SEM с режимом двойного объектива
Наблюдение со сверхвысоким разрешением (режим HR: полулинзовый)
Высокоточное определение конечных точек в реальном времени (режим FF: Field Free (режим разделения времени))
2. Высокопроизводительная обработка материалов
Сверхбыстрая обработка с высокой плотностью ионного тока (макс. ток пучка: 100 нА)
Программируемый пользователем сценарий для автоматической обработки и наблюдения
3. Система отбора микропроб
Полностью интегрированный контроль ориентации образца для обеспечения эффекта антизавихрения (технология ACE)
Подготовка образцов для ТЭМ для получения однородных ламелей при любой ориентации
4. Возможность работы с тремя лучами, обеспечивающая высокое качество результатов
Ионно-лучевая обработка материалов ионами благородных газов с низким ускорением
Инновационные функции снижают количество артефактов, связанных с ионами Ga, и других артефактов фрезерования
5. Большая многопортовая камера и стадия для различных применений
Система, способная работать с образцами большого размера, с исключительной устойчивостью статива
Полный диапазон улучшенного слежения на больших расстояниях (155 x 155 мм)
Усовершенствованная электронная оптика и многосигнальное детектирование
Колонна РЭМ Ethos состоит из системы составных объективов с магнитным и электростатическим полем, сконфигурированных в двух режимах.
---