Производственная система PlasmaPro 100

Модули PlasmaPro 100 RIE обеспечивают изотропное и анизотропное сухое травление для широкого спектра процессов. Они подходят для исследовательских и производственных заказчиков, обеспечивая контролируемую среду, которая улучшает воспроизводимость процесса благодаря опциям блокировки нагрузки и кассеты. Совместимость со всеми размерами пластин до 200 мм Обработка одной пластины или партии с превосходным контролем процесса Высокий контроль газов и мощности плазмы Быстрая смена размеров пластин Низкая стоимость владения и простота обслуживания Превосходная однородность, высокая производительность и высокая точность процессов Очистка камеры на месте и обработка конечных точек Электрод с широким температурным диапазоном, от -150°C до 400°C Обзор Реактивно-ионное травление (RIE) - это преимущественно физический процесс травления. Насыщенная плазма создается прямо над пластиной, и ионы ускоряются к поверхности, создавая мощное и высокоанизотропное травление. Газ поступает в верхнюю часть камеры, где он преобразуется в реактивную плазму под низким давлением с помощью радиочастотного источника на уровне пластины. Ионы либо взаимодействуют с образцом, образуя побочные продукты травления, либо остаются в виде непрореагировавших видов. Все непрореагировавшие виды и побочные продукты удаляются из камеры вакуумным насосом, чтобы поддерживать насыщенную и активную плазму для поддержания высокой скорости травления. PlasmaPro 100 RIE доставляет реактивные виды к подложке по равномерному высокопроводящему пути через камеру, что позволяет использовать большой поток газа при сохранении низкого давления. - Характеристики Электрод с широким температурным диапазоном (от -150°C до +400°C), который можно охлаждать жидким азотом, охладителем с рециркуляцией жидкости или резистивным нагревом.