Устройство управления расхода Turbo™ 2950

для лабораторийвысокоточное

Основанные на проверенной на практике технологии, контроллеры потока жидкости MSP Turbo™ 2950 были разработаны для работы с испарителями MSP Turbo II™, чтобы обеспечить надежное и высокопроизводительное решение для подачи жидкого пара для процессов осаждения тонких пленок полупроводников (включая CVD, PECVD, ALD и MOCVD). Контроллеры потока жидкости Turbo™ 2950 содержат специально разработанный высокоточный, высокоскоростной датчик потока и тщательно разработанную электронику управления потоком, чтобы обеспечить производительность мирового класса, необходимую для передовой обработки полупроводников. - Точное управление потоком LFC 2950 интегрируют датчики потока и электронику управления жидкостью для регулирования пьезоклапана на испарителях MSP Turbo II™. Для испарителей без встроенного пьезоклапана рассмотрите серию 2950V Turbo™ LFC для эффективного управления потоком. - Применения - Процессы осаждения тонких пленок полупроводников - Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) - Плазменно-усиленное химическое осаждение из паровой фазы (PECVD) - Осаждение атомных слоев (ALD) - Металлоорганическое химическое осаждение из паровой фазы (MOCVD) - Приложения с постоянными требованиями к скорости потока - Особенности и преимущества - Фиксированная скорость потока - Исключительная точность и линейность - Ультрабыстрое время отклика - Превосходная повторяемость - Широкие варианты диапазона потока - Доступные модели Turbo™ LFC - Номер модели: 2950-002, 2950-01, 2950-05, 2950-10, 2950-20, 2950-30 - Полная шкала TEOS* (г/мин): 0.2, 1, 5, 10, 20, 30 - Полная шкала TEMAZr (г/мин): n/a, 0.19, 0.95, 1.9, 3.8, 5.7 - Полная шкала H2O (г/мин): 0.14, 0.73, 3.6, 7.3, 14, 21 *Номинальный максимальный поток определяется с использованием TEOS в качестве эталонной жидкости при 23±2°C. Диапазон скорости потока является функцией указанной жидкости. - Бренд: TSI (MSP Turbo™) - Модель: 2950-01 (другие доступные модели: 2950-002, 2950-05, 2950-10, 2950-20, 2950-30) - Применение: Осаждение тонких пленок полупроводников (CVD, PECVD, ALD, MOCVD) - Особенности: Фиксированная скорость потока, высокая точность, быстрая реакция, повторяемость, широкий диапазон